在嗮國內(nèi)7家光刻膠企業(yè)成績單前先看一則阿斯邁爾光刻機動態(tài)：

ASML 準備交付第一臺高 NA 極紫外光刻機

ASML 計劃在今年內(nèi)交付第一臺 數(shù)值孔徑（NA）的極紫外（EUV）光刻機。這臺光刻機主要用于開發(fā)目的，幫助客戶熟悉新技術和功能。高 NA 極紫外光刻機商業(yè)使用預計要到 2025 年之后。數(shù)值孔徑（NA）用以衡量光學系統(tǒng)能夠收集的光的角度范圍，它描述了物鏡收光錐角的大小，而后者決定了顯微鏡收光能力和空間分辨率。 NA 對應的光刻分辨率 8nm。ASML 沒有披露首位高 NA 極紫外光刻機的客戶名字，但推測就是英特爾。英特爾此前透露它的 18A 工藝節(jié)點將使用高 NA 光刻機，由于時間表提前而采用其它方案，但它可能會在 18A 工藝節(jié)點的后期使用高 NA EUV 光刻機。這些光刻機價格不菲，預計超過 3 億美元，將進一步加大先進晶圓廠的制造成本。

(資料圖片)

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7家光刻膠企業(yè)上半年成績單：多家企業(yè)光刻膠新品進入驗證階段

在半導體領域，2019-2022年中國大陸半導體光刻膠市場規(guī)模保持良好的增長態(tài)勢。2022年消費領域的芯片受到供應鏈危機緩解及庫存消化的影響，產(chǎn)能利用率下降。反觀8寸及12寸硅晶圓因汽車、工業(yè)、物聯(lián)網(wǎng)以及5G建設的驅(qū)動而呈現(xiàn)需求上升的局面。根據(jù)勢銀（TrendBank）調(diào)研統(tǒng)計分析，2023年中國大陸半導體光刻膠市場規(guī)模預計達到億元，同比增長%，增速將有所放緩。

圖：2019-2023年中國大陸半導體用光刻膠市場規(guī)模（億元）

來源：勢銀《光刻膠及原料產(chǎn)業(yè)最近進展與趨勢》報告

在顯示領域，2022年中國大陸面板市場低迷。受此影響，2022年顯示用光刻膠市場規(guī)模有所下滑，整體市場情況將在2023年獲得改善。根據(jù)勢銀（TrendBank）統(tǒng)計預測分析，2023年中國大陸顯示用光刻膠市場規(guī)模達到億元，同比增長%。

圖：2019-2023年中國大陸顯示用光刻膠市場規(guī)模（億元）

來源：勢銀《光刻膠及原料產(chǎn)業(yè)最近進展與趨勢》報告

目前，國內(nèi)光刻膠企業(yè)正加快光刻膠產(chǎn)品的研發(fā)驗證導入步伐。截止8月底，7家涉及光刻膠板塊的上市企業(yè)都已發(fā)布半年報，業(yè)績情況如下——

整理上述7家企業(yè)半年報信息，一文了解各廠商具體進展。

受半導體市場下降影響，2023年上半年半導體光刻膠實現(xiàn)銷售收入8258萬元，得益于膠成熟產(chǎn)品的持續(xù)放量以及新產(chǎn)品的增加，KrF光刻膠依然保持著較快的增速達到%。I線光刻膠方面，ICA光刻膠開始放量，增長率達到%。

2023年上半年，北旭電子實現(xiàn)銷售收入億元，同比下降%；面板光刻膠產(chǎn)品銷量同比增長%，國內(nèi)市占率約為%。報告期內(nèi)，公司的一款4-Mask高感度光刻膠新品出貨持續(xù)增加中。針對AMOLED面板客戶開發(fā)的高性能的高分辨率光刻膠分辨率達到μm、μm，已在客戶完成階段性批量驗證。同時，有機膜產(chǎn)品、高耐熱光刻膠、低溫光刻膠也在研發(fā)和客戶測試中。

在樹脂產(chǎn)品上，上半年液晶面板Array half-tone光刻膠酚醛樹脂量產(chǎn)成功；高分辨率光刻膠酚醛樹脂進入量產(chǎn)產(chǎn)品已經(jīng)在液晶面板產(chǎn)線測試；OLED光刻膠酚醛樹脂進入開發(fā)階段；多個G/I線酚醛樹脂處于中試/大試階段；先進I線光刻膠酚醛樹脂、lift off負膠酚醛樹脂研發(fā)取得階段性進展。

在項目建設上，報告期內(nèi)年產(chǎn)萬噸半導體、平板顯示用光刻膠及2萬噸相關配套試劑項目也已經(jīng)部分建設完成。

報告期內(nèi)，瑞紅蘇州實現(xiàn)營業(yè)收入11,萬元，同比減少%；實現(xiàn)歸屬于掛牌公司股東的凈利潤1,萬元，同比減少%。

瑞紅蘇州表示，凈利潤同比下滑較多的主要原因為：全球集成電路行業(yè)進入下行周期，下游終端如智能手機、電腦等消費電子需求疲軟，供應鏈持續(xù)調(diào)整庫存。

據(jù)悉，瑞紅蘇州在今年2月16日正式登陸新三板。公司的i線光刻膠產(chǎn)品規(guī)模化向中芯國際、合肥長鑫、華虹半導體、晶合集成等國內(nèi)知名半導體企業(yè)供貨；KrF高端光刻膠部分品種已量產(chǎn)；ArF高端光刻膠研發(fā)工作正進行中。截止報告期末公司擁有30項國內(nèi)專利，其中發(fā)明專利19項。

今年4月，徐州博康（華懋科技、華為哈勃控股）對外公布超6億元融資順利完成交割。新資金的注入將助力徐州博康加快推進在光刻膠全產(chǎn)業(yè)鏈自主創(chuàng)新技術的持續(xù)研發(fā)和產(chǎn)能布局，也為進一步打造徐州博康平臺型精細化工企業(yè)提供了資金保障。

目前，公司有多款高端光刻膠產(chǎn)品分別獲得了國內(nèi)12寸晶圓廠的相關訂單，包括ArF-immersion產(chǎn)品及ArF-dry，KrF，I-line等。其中，ArF-immersion產(chǎn)品已經(jīng)適用于45nm-28nm制程。具體分品類來看——

（1）ArF光刻膠有26款產(chǎn)品，9款ArF-immersion及ArF-dry光刻膠正在客戶端進行產(chǎn)品驗證導入量產(chǎn)，品種類涵蓋55nm、40nm、28nm及以下的關鍵層工藝。

（2）KrF光刻膠有30款產(chǎn)品，20余款KrF光刻膠正在客戶端進行產(chǎn)品驗證導入量產(chǎn)。

（3）I線光刻膠有15款產(chǎn)品，10多款I線光刻膠正在客戶端進行產(chǎn)品驗證導入量產(chǎn)。

（4）電子束光刻膠有3大種類，為PMMA、PHS和HSQ體系，已為數(shù)十家企業(yè)和高校提供標準化、定制化的電子束光刻膠產(chǎn)品。

報告期內(nèi)，上海新陽實現(xiàn)營業(yè)收入 億元，較去年同期略有增長；實現(xiàn)歸屬于上市公司股東的凈利潤為8,681萬元，同比增長776%。公司半導體行業(yè)實現(xiàn)營業(yè)收入 億元，同比增長 %，集成電路制造用關鍵工藝材料系列產(chǎn)品收入穩(wěn)定增長。

報告期內(nèi)，光刻膠系列產(chǎn)品已實現(xiàn)營業(yè)收入超百萬元。其中，光刻膠項目研發(fā)進展比較順利，I線、KrF光刻膠產(chǎn)品已在超20家客戶端提供樣品進行測試驗證。ArF浸沒式光刻膠的研發(fā)進展也比較順利，已在國內(nèi)多家晶圓制造企業(yè)開展測試驗證工作。同時，原料樹脂的合成方案探索、工藝優(yōu)化、穩(wěn)定性等方面都取得突破。

今年2月，上海新陽發(fā)布公告表示，擬億投建光刻膠等集成電路關鍵工藝材料項目，預計年產(chǎn)500噸I線、KrF、ArF 干/濕法光刻膠等產(chǎn)品。項目擬于2023年取得施工許可證，2025年底前竣工，2026年6月底前投產(chǎn)。

南大光電今年一季度扭轉(zhuǎn)了去年第四季度業(yè)績下跌的趨勢；二季度營業(yè)收入、凈利潤均實現(xiàn)環(huán)比增長。今年上半年整體實現(xiàn)歸屬于上市公司股東的凈利潤15, 萬元，較上年同增長%。

南大光電表示，公司在光刻膠技術研發(fā)方面始終堅持完全自主化路線。控股子公司寧波南大光電的光刻膠研發(fā)中心具備了研制功能單體、功能樹脂、光敏劑等光刻膠材料的能力，能夠?qū)崿F(xiàn)從光刻膠原材料到光刻膠產(chǎn)品及配套材料的全部自主化。

來源：南大光電

目前研發(fā)的產(chǎn)品已在下游客戶存儲芯片50nm和邏輯芯片55nm技術節(jié)點上通過認證，多款產(chǎn)品正在主要客戶處認證，持續(xù)推動光刻膠及配套材料產(chǎn)品的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化。

2023年上半年，雅克科技實現(xiàn)營業(yè)收入232,萬元，與上年同期相比增長%；實現(xiàn)歸屬于上市公司股東的凈利潤為34,萬元，同比增長%。

報告期內(nèi)，雅克科技光刻膠業(yè)務發(fā)展勢頭強勁，客戶涵蓋包括京東方、華星光電、惠科等國內(nèi)主要面板制造商，產(chǎn)品銷量和市場占有率不斷得到提升。公司自主研發(fā)的OLED用低溫RGB光刻膠、CMOS傳感器用RGB光刻膠、先進封裝RDL層用l-Line光刻膠等產(chǎn)品正按計劃在客戶端測試，進程順利。

另據(jù)雅克科技5月在投資者互動平臺的回復顯示：公司的半導體制程光刻膠研發(fā)工作按計劃推進中。此外，新一代電子信息材料國產(chǎn)化項目-光刻膠及光刻膠配套試劑項目預計將于2023年9月達到可使用狀態(tài)。

2023年上半年，飛凱材料受國內(nèi)經(jīng)濟內(nèi)生動能不足、市場需求疲弱、電子消費降級等影響，實現(xiàn)營業(yè)收入131,萬元，較去年同期比較下降%；實現(xiàn)歸屬于上市公司股東的凈利潤17,萬元，較去年同期減少%。

報告期內(nèi)，公司進一步拓展了底部抗反射層產(chǎn)品（BARC）的市場，且向市場推出了新一代光引發(fā)劑產(chǎn)品（TMO）。

在光刻膠產(chǎn)品方面，公司I-line光刻膠和248nm光刻膠抗反射層材料已實現(xiàn)部分客戶量產(chǎn)，將進一步提升公司半導體光刻膠的競爭力。同時，公司前期建設項目5000t/aTFT-LCD光刻膠項目和5500t/a合成新材料項目已向客戶穩(wěn)定供貨。

另據(jù)近期采訪顯示，飛凱材料透露未來將會把重點放在光刻膠抗反射層及下層材料方向上。